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(续版本1)

继续创造良好的创新和商业环境

国家知识产权局局长沈长宇近日在杭州召开的第十届中国知识产权年会上表示,中国将继续坚定不移地实施严格的知识产权保护制度,继续营造良好的创新环境和商业环境:将实施更加严格的商标侵权惩罚性赔偿制度,加大对恶意注册和囤积商标的打击力度;同时,加快专利法修改,建立侵权惩罚性赔偿制度和药品专利保护期补偿制度,延长外观设计专利保护期,更好地保护专利权;以国际社会为中心,加强知识产权保护国际合作,加快构建多边、周边、小型多边和双边“四面联动、协调推进”的知识产权国际合作新格局。

中国持续加强知识产权保护

“知识产权保护体系的不断完善和落地,知识产权保护的加强,将有效吸引外商投资企业特别是高新技术外商投资企业增加在华投资和技术合作,促进国际创新资源的集聚。”王表示,此外,这将为我国相关技术创新企业的技术开发和应用提供有力保障,促进企业加大技术开发投入,创造有序、动态的技术生态系统。

中国持续加强知识产权保护

王表示,今后中国有关知识产权保护的法律将进一步完善。《商标法》和《著作权法》的修改已经提上日程。相关法律的修订将加强中国与国际标准的对接。今后签署的国际经贸协定将突出与知识产权保护有关的内容。”

标题:中国持续加强知识产权保护

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